SÜSS MicroTec führt LI Serie - die neuen Operator unterstützten Oberflächen Laser-Imager in den Markt ein

Garching, 19. Mai 2016 - SÜSS MicroTec, führender Hersteller von Anlagen und Prozesslösungen für die Halbleiterindustrie und verwandte Märkte, gibt heute die bereits vorangekündigte Markteinführung der LI Serie, der neuen Oberflächen Laser-Imaging-Plattform, bekannt.

Die vielseitig einsetzbare Oberflächen Laser-Imaging-Plattform LI eignet sich sowohl für Sub-mikrometer Strukturierungen von belackten Substraten als auch zur Mikro-Ablation, zur fotochemischen Behandlung als auch für Messtechnikverfahren.

Die Strukturen, welche durch CAD-Verfahren vordefiniert sind, werden durch präzise Bewegungen der zu strukturierenden Substrate unter einem fokussierten und abtastenden Laserstrahl übertragen. Darüber hinaus ist die Konfiguration der Oberflächen Laser-Imaging-Plattform extrem flexibel anpassbar, so dass die jeweiligen Kundenanforderungen bestmöglich erfüllt werden können. Das System kann Substrate mit einem kleinen Durchmesser bis hin zu Durchmessern von 300 mm bearbeiten und erreicht dabei eine Auflösung von 0,8 µm. Die Oberflächen Laser-Imaging-Plattform ermöglicht des Weiteren eine Mehrschichtausrichtung, welche durch optische Systeme zur oberen und unteren Ausrichtung unterstützt wird. Zusätzlich zu dem 405nm GaN Laser für standardmäßige Lithografieprozesse mit dünnen Fotolackschichten, kann ein zweiter Laser installiert werden, welcher weitere Arbeitsabläufe, wie beispielsweise die Prozessierung dicker Lackschicken, z.b. SU8, oder infrarot-sensibler Materialien ermöglicht.

Ein großer Vorteil der neuen Oberflächen Laser-Imaging-Plattform ist die herausragende Flexibilität, die sich optimal für die verschiedenen Anforderungen der akademischen sowie der industriellen Forschungs- und Entwicklungsinstitute eignet. Die wichtigsten Anwendungsbereiche sind die Nano- und 3D-Strukturierung für hochauflösende Lithografieverfahren, Mikrofluidik, Maskenherstellung und die Definition von mikrooptischen Komponenten.

"Mit der LI Serie ergänzen und erweitern wir unser Produktportfolio um ein Gerät, welches komplementär zu unseren bestehenden Belichtungsgeräten im Hinblick auf die gestiegenen Anforderungen an hochauflösende Anwendungen ist.", sagt Dr. Per-Ove Hansson, Vorstandsvorsitzender der SÜSS MicroTec AG. "Mit dieser Produkteinführung verstärken wir unsere Führungsposition und bieten somit die umfassendste Palette von Produkten und Technologien für den Forschungs- und Entwicklungsbereich in der Lithografie."

Über SÜSS MicroTec
SÜSS MicroTec ist einer der weltweit führenden Hersteller von Anlagen- und Prozesslösungen für die Mikrostrukturierung in der Halbleiterindustrie und verwandten Märkten. In enger Zusammenarbeit mit Forschungsinstituten und Industriepartnern treibt SÜSS MicroTec die Entwicklung von neuen Technologien wie 3D Integration und Nanoimprint Lithographie sowie Schlüsselprozesse für die MEMS und LED Produktion voran. Weltweit sind mehr als 8.000 installierte Systeme von SÜSS MicroTec im Einsatz, unterstützt von einer globalen Infrastruktur für Applikationen und Service. Hauptsitz der SÜSS Gruppe ist in Garching bei München. Für weitere Informationen besuchen Sie www.suss.com.

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