AIXTRON und SINANO gründen gemeinsames Trainingszentrum in China

Shanghai, 6. Juli 2011 - AIXTRON SE und SINANO - das Suzhou Institut für Nanotechnologie und -bionik in China - haben die Gründung eines gemeinsamen Trainings- und Demonstrationszentrums bekannt gegeben. In dem neuen Zentrum soll AIXTRONs Technologie an bereits existierende wie auch an potentielle Kunden vermittelt werden.

Vor dem Hintergrund des schnell anwachsenden Marktes für LED-basierende Festkörperbeleuchtung in China haben die Bestellungen für MOCVD-Anlagen stark zugenommen. Dies hat bereits zu einem deutlichen Mangel an gut ausgebildeten Technikern und Fachleuten in der Region des Yangtze-Flussdeltas geführt, dem nun durch das neu geschaffene Trainingszentrum begegnet werden soll.

Das neue Zentrum befindet sich im Suzhou Industrial Park (SIP) und wird im Laufe des Jahres 2011 seinen Betrieb aufnehmen.

AIXTRONs Kooperationspartner SINANO ist bereits langjähriger MOCVD-Kunde und betreibt mehrere AIXTRON Forschungsanlagen in seinen Räumlichkeiten. Das Trainingszentrum wird zusätzlich mit den neuesten MOCVD-Anlagen vom Typ CRIUS^(R) II und AIX G5 HT ausgestattet. Erfahrene AIXTRON Prozess- und Instandhaltungs-fachleute werden ihre Expertise in das Trainingszentrum einbringen, um dem hohen Qualitätsanspruch gerecht zu werden.

Das Kooperationsabkommen wurde am 22. Juni 2011 in einer feierlichen Zeremonie in Suzhou von Repräsentanten beider Organisationen unterzeichnet, wobei die Einzigartigkeit der Zusammenarbeit von beiden Seiten betont wurde. AIXTRONs CFO Wolfgang Breme konnte seine Begeisterung für das Projekt nicht verhehlen: 'Mit dem neuen Trainingszentrum wird AIXTRON einen wichtigen Beitrag zur Gestaltung der industriellen Zukunft Chinas leisten. China hat das klare Ziel, zu den weltweit führenden Herstellern von LEDs zu gehören, was auch eindeutig im neuesten Fünfjahresplan dargestellt worden ist. Die Ausbildung von MOCVD-Fachleuten ist eine Grundvoraussetzung für die Umsetzung dieses Plans, und das neue Zentrum wird die Basis dafür darstellen. Suzhou ist in idealer Weise dafür geeignet, weil hier bereits eine geeignete Infrastruktur vorhanden ist, die schon von vielen namhaften Industrieunternehmen genutzt wird. Wir sind darüber hinaus überzeugt, dass SINANO der geeignetste Partner für dieses prestigeträchtige Projekt ist.

Über SINANO
SINANO - das Suzhou Institut für Nanotechnologie und -bionik der chinesischen Akademie der Wissenschaften (CAS), wurde 2006 von der CAS, der Jiangsu Lokalregierung und der kommunalen Volksvertretung von Suzhou gegründet
Das Institut liegt im Wissenschafts- und Ausbildungsdistrikt für Innovationen am Suzhou Dushu Lake. Die erste Bauphase wird eine Investition von rund 428 Millionen Yuan umfassen. In die nächste Phase, die Ende 2012 abgeschlossen sein wird, werden rund 680 Millionen Yuan investiert.

Die chinesische Akademie der Wissenschaften in eine der führenden akademischen Institutionen in China. Das Forschungszentrum der Akademie befasst sich mit Themen aus den Bereichen der Naturwissenschaften, der Technologie und der High-Tech Innovationen. Gegründet wurde sie am 1. November 1949 in Peking von der damaligen Academia Sinica, der zentralen Akademie der Wissenschaften und der Peiping Wissenschaftsakademie.

Weitere Informationen über AIXTRON (FWB: AIXA, ISIN DE000A0WMPJ6; NASDAQ: AIXG, ISIN US0096061041) sind im Internet unter www.aixtron.com verfügbar.

 Kontakt:

Guido Pickert
Investor Relations and Corporate Communications
AIXTRON SE, Kaiserstr. 98, 52134 Herzogenrath, Germany
Phone: +49 241 8909 444, Fax: +49 241 8909 445, invest@aixtron.com
www.aixtron.com

Zukunftsgerichtete Aussagen

Dieses Dokument kann zukunftsgerichtete Aussagen über das Geschäft, die Finanz- und Ertragslage und Gewinnprognosen von AIXTRON im Sinne der "Safe Harbor"-Bestimmungen des US-amerikanischen Private Securities Litigation Reform Act von 1995 enthalten. Begriffe wie "können", "werden", "erwarten", "rechnen mit", "erwägen", "beabsichtigen", "planen", "glauben", "fortdauern" und "schätzen", Abwandlungen solcher Begriffe oder ähnliche Ausdrücke kennzeichnen diese zukunftsgerichteten Aussagen. Solche zukunftsgerichteten Aussagen geben unsere gegenwärtigen Beurteilungen und Annahmen wieder und gelten vorbehaltlich bestehender Risiken und Unsicherheiten. Sie sollten kein unangemessenes Vertrauen in die zukunftsgerichteten Aussagen setzen. Die tatsächlichen Ergebnisse und Trends können wesentlich von unseren zukunftsgerichteten Aussagen abweichen. Dies kann durch Faktoren verursacht werden, wie zum Beispiel die tatsächlich von AIXTRON erhaltenen Kundenaufträge, den Umfang der Marktnachfrage nach Depositionstechnologie, den Zeitpunkt der endgültigen Abnahme von Erzeugnissen durch die Kunden, das Finanzmarktklima und die Finanzierungsmöglichkeiten von AIXTRON, die allgemeinen Marktbedingungen für Depositionsanlagen, und das makroökonomische Umfeld, Stornierungen, Änderungen oder Verzögerungen bei Produktlieferungen, Beschränkungen der Produktionskapazität, lange Verkaufs- und Qualifizierungszyklen, Schwierigkeiten im Produktionsprozess, die allgemeine Entwicklung der Halbleiterindustrie, eine Verschärfung des Wettbewerbs, Wechselkursschwankungen, die Verfügbarkeit öffentlicher Mittel, Zinsschwankungen bzw. Änderung verfügbarer Zinskonditionen, Verzögerungen bei der Entwicklung und Vermarktung neuer Produkte, eine Verschlechterung der allgemeinen Wirtschaftslage sowie durch alle anderen Faktoren, die AIXTRON in öffentlichen Berichten und Meldungen aufgeführt und bei der U.S. Securities and Exchange Commission eingereicht hat. In dieser Mitteilung enthaltene zukunftsgerichtete Aussagen beruhen auf den gegenwärtigen Einschätzungen und Prognosen des Vorstands sowie den ihm derzeit verfügbaren Informationen und haben Gültigkeit zum Zeitpunkt dieser Mitteilung. AIXTRON übernimmt keine Verpflichtung zur Aktualisierung oder Überprüfung zukunftsgerichteter Aussagen wegen neuer Informationen, künftiger Ereignisse oder aus sonstigen Gründen, soweit keine ausdrückliche rechtliche Verpflichtung besteht.